Белорусский государственный технологический университет, Минск
Современные технологические подходы производства электронных устройств предполагают использование самоорганизущихся процессов формирования целевых структур и материалов на их основе, обладающих параметрами высокой точности.
Перспективными объектами для опто-, микро- и наноэлектроники, сенсоров, газоселективных мембран, фотокатализаторов и других объектов являются микро- и нанопористые матрицы, модифицированные функциональными материалами. Например, при создании прозрачных электропроводящих наноструктур для жидкокристаллических устройств, газоселективных мембран используются процессы самоорганизованного роста упорядоченного анодного оксида алюминия [1].
Предложенная нами технология заключается в создании упорядоченных пористых структур анодированного оксида алюминия, сформированных на стеклянных подложках. Подготовка стеклянных подложек осуществлялась согласно методике [2].
В качестве электролита анодирования использовали раствор щавелевой кислоты с добавлением анионного поверхностно-активного вещества додецилсульфат натрия и катионного поверхностно-активного вещества триметилдодециламмоний бромида для управления структурно-геометрическими параметрами образующегося оксида алюминия.
Исследования показали, что оптические свойства анодного оксида алюминия, полученного в присутствии катионного поверхностно-активного вещества триметилдодециламмоний бромида выше, чем в присутствии анионного поверхностно-активного вещества додецилсульфата натрия.
Изучение морфологии входящих структур в анодный оксид алюминия при помощи ИК-спектроскопии позволило определить, что вводимые в электролит анодирования поверхностно-активные вещества после проведения электрохимической обработки поверхности не содержатся в составе анодно-оксидной пленки, так как на полученных ИК-спектрах имеются пики, характерные для присутствия оксалат-ионов Они лишь участвуют в формировании матрицы анодного оксида алюминия и после завершения процесса анодирования вымываются водой.
Структура поверхности анодированного оксида алюминия, полученного в присутствии поверхностно-активных веществ, представлена на рисунках 1 и 2.
Рис. 1. Микрофотография поверхности оксида алюминия, полученного в щавелевой кислоте с применением анионного поверхностно-активного вещества
Рис. 2. Микрофотография поверхности оксида алюминия, полученного в щавелевой кислоте с применением катионного поверхностно-активного вещества
На микрофотографии отчетливо наблюдается расположение ячеек и геометрия пор анодированного оксида алюминия. Проведение микрофотографических исследований поверхности позволило определить характеристические параметры анодно-оксидного покрытия, такие как доля пор на поверхности и средний диаметр пор анодно-оксидного покрытия.
Доля пор на поверхности анодированного оксида алюминия, полученного в щавелевой кислоте, составляет 9 %. Добавление анионного поверхностно-активного вещества приводит к увеличению доли пор на поверхности анодно-оксидного покрытия и составляет 11%. Однако, введение катионного поверхностно-активного вещества в электролит анодирования приведет к уменьшению доли пор на поверхности анодно-оксидного покрытия и составит 6 %.
Средний диаметр пор в анодно-оксидной пленке, полученной при анодировании в щавелевой кислоте, изменяется в диапазоне от 10 до 11 нм. Добавление поверхностно-активных веществ по-разному влияет на диапазон распределения среднего диаметра пор анодного оксида алюминия. Таким образом, применяя анионное поверхностно-активное вещество, можно увеличить средний диаметр пор анодно-оксидного покрытия в диапазоне 12 – 16 нм, а при добавлении катионного поверхностно-активного вещества ТМ – от 16 до 18 нм в зависимости от концентрации поверхностно-активного вещества.
Таким образом, введение поверхностно-активных веществ по-разному влияет на характеристические параметры и свойства анодно-оксидных покрытий. Варьируя не только типами поверхностно-активных веществ, но и их концентрациями можно изменять параметры пористой структуры в зависимости от условий получения. Полученные наноструктурированные анодно-оксидные покрытия могут быть перспективными при производстве электрооптических устройств памяти, а также дисплейной техники различного назначения.
Литература